Бюллетень ЕАПВ "Изобретения (евразийские заявки и евразийские патенты)"
Бюллетень 08´2018

  

(11) 

030470 (13) B1       Разделы: A B C E F G H    

(21) 

201591297

(22) 

2014.01.15

(51) 

C25D 3/06 (2006.01)
C23C 28/02
(2006.01)
C25D 5/50
(2006.01)

(31) 

PCT/FI2013/050038

(32) 

2013.01.15

(33) 

FI

(43) 

2016.01.29

(86) 

PCT/FI2014/050029

(87) 

WO 2014/111624 2014.07.24

(71) 

(73) САВРОК ЛТД (FI)

(72) 

Миеттинен Юха, Ряйся Юсси (FI)

(74) 

Поликарпов А.В. (RU)

(54) 

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ХРОМОВОГО ПОКРЫТИЯ НА МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКЕ

(57) 1. Способ получения покрытия на основе трехвалентного хрома на металлической подложке, включающий следующие этапы:

нанесение слоя никель-фосфорного сплава на металлическую подложку;

электроосаждение хромового слоя из ванны, содержащей трехвалентный хром, на слой Ni-P и

проведение одной или более термических обработок металлической подложки с нанесенным покрытием, где температура по меньшей мере одной из термических обработок составляет 500-1000°C, с целью повышения твердости покрытия и получения многофазных слоев, включающих по меньшей мере один слой, содержащий кристаллический Ni и кристаллический Ni3P, и по меньшей мере один слой, содержащий кристаллический Cr и кристаллический CrNi, и где покрытие содержит кристаллический изовит (Cr,Fe)23C6 и/или Cr3C2.

2. Способ по п.1, дополнительно включающий этап электроосаждения никелевого подслоя на металлическую подложку перед этапом нанесения слоя Ni-P и/или дополнительно включающий этап электроосаждения промежуточного слоя никеля между слоем Ni-P и слоем Cr.

3. Способ по любому из пп.1-2, включающий две или более термические обработки металлической подложки с нанесенным покрытием.

4. Способ по любому из пп.1-3, в котором слой Ni-P наносят на металлическую подложку химическим осаждением или электроосаждением.

5. Способ по любому из пп.1-4, в котором содержание фосфора в сплаве Ni-P составляет от 3 до 12%, предпочтительно от 5 до 9%.

6. Способ по любому из пп.1-5, в котором толщина слоя Ni-P составляет от 1 до 50 мкм, предпочтительно от 3 до 30 мкм.

7. Способ по любому из пп.1-6, в котором толщина слоя Cr составляет от 0,05 до 100 мкм, предпочтительно от 0,3 до 5 мкм.

8. Способ по п.3, в котором температура первой термической обработки составляет от 200 до 500°C, предпочтительно от 350 до 450°C, и температура второй термической обработки составляет от 500 до 800°C, предпочтительно от 650 до 750°C, или в котором температура первой термической обработки составляет от 500 до 800°C, предпочтительно от 650 до 750°C, и температура второй термической обработки составляет от 200 до 500°C, предпочтительно от 350 до 450°C.

9. Способ по п.1, дополнительно включающий следующие этапы:

предварительное нанесение блестящего слоя Ni на металлическую подложку;

выполнение дополнительной термической обработки металлической подложки с нанесенным покрытием при температуре от 200 до 500°C в течение 15-30 мин.

10. Способ по п.1, включающий дополнительно, по меньшей мере, однократный повтор этапов нанесения слоя никель-фосфорного сплава и электроосаждения слоя хрома из ванны, содержащей трехвалентный хром, перед указанной одной или более термическими обработками.

11. Способ по п.10, дополнительно включающий этап нанесения вспомогательного слоя на слой трехвалентного хрома перед нанесением нового слоя никель-фосфорного сплава.

12. Способ по п.10 или 11, дополнительно включающий этап нанесения промежуточного слоя между слоями Ni-P и Cr, где промежуточный слой состоит из другого металла или сплава металлов или керамики.

13. Способ по любому из пп.1-7 или 10-12, в котором по меньшей мере одну из термических обработок выполняют при температуре, которая приводит к повышению твердости металлической подложки одновременно с повышением твердости покрытия.

14. Способ по любому из пп.1-13, дополнительно включающий этап нанесения на металлическую подложку с нанесенным покрытием верхнего слоя посредством тонкопленочного осаждения, такого как физическое осаждение из газовой фазы (ФОГФ), химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ) или атомно-слоевое осаждение (АСО).

15. Подложка с покрытием, получаемая любым из способов по пп.1-14, включающая металлическую подложку и покрытие, нанесенное на указанную металлическую подложку, где указанное покрытие включает многофазные слои, получаемые термической обработкой металлической подложки с нанесенным покрытием, и указанные многофазные слои включают по меньшей мере один слой, содержащий кристаллический Ni и кристаллический Ni3P, и по меньшей мере один слой, содержащий кристаллический Cr и кристаллический CrNi.

Увеличить масштаб


наверх