(57) 1. Устройство для идентификации ограненного алмаза, содержащее место для измерения с измерительным отверстием, на котором размещается с возможностью фиксации ограненный алмаз, подлежащий исследованию, источник лазерного излучения с длиной волны 532 нм, микроконтроллер и оптическую систему, выполненную с возможностью перемещения относительно места для измерения, включающую спектрометр, два источника излучения с длинами волн 250-280 нм и 350-380 нм соответственно, причём указанные два источника излучения и спектрометр соединены с местом для измерения оптическими волокнами для ввода излучения в ограненный алмаз и оптическим волокном для вывода излучения из ограненного алмаза; при этом ограненный алмаз размещается в месте для измерения таким образом, чтобы площадка алмаза была обращена к измерительному отверстию места для измерения, а калетта алмаза находилась непосредственно над измерительным отверстием, к которому подводятся оптические волокна для ввода излучения и оптическое волокно для вывода излучения, при этом микроконтроллер выполнен с возможностью управления поочередной работой источников излучения с заданной временной последовательностью, перемещением оптической системы для обеспечения ввода излучения в ограненный алмаз, а также обработкой данных спектрометра.
2. Устройство по п.1, в котором оптическое волокно для вывода излучения содержит два отрезка оптического волокна, оптически соединенные между собой двумя коллимирующими линзами.
3. Устройство по п.1, в котором оптическая система выполнена с возможностью перемещения таким образом, что оптические волокна для ввода и вывода излучения от источника излучения с длинами волн 250-280 нм непосредственно примыкают к поверхности ограненного алмаза.
4. Устройство по п.1, в котором оптическая система выполнена с возможностью перемещения таким образом, что между оптическими волокнами для ввода и вывода излучения от источника излучения с длинами волн 350-380 нм образуется зазор размером 1-2 мм.
5. Устройство по п.4, в котором источник лазерного излучения выполнен с возможностью направления лазерного излучения на поверхность ограненного алмаза через указанный зазор.
6. Устройство по п.4 или 5, дополнительно содержащее зеркало, установленное на оптическом пути между источником лазерного излучения и ограненным алмазом, при этом направление указанного лазерного излучения на поверхность ограненного алмаза обеспечивается посредством указанного зеркала.
7. Устройство по п.2, в котором оптическая система дополнительно содержит нотч-фильтр, выполненный с возможностью размещения между двумя коллимирующими линзами для ослабления интенсивности излучения от источников излучения.
8. Устройство по п.7, в котором нотч-фильтр снабжен перемещающим механизмом ввода-вывода для вывода фильтра с оптического пути излучения при выводе оптического излучения от источника излучения с длинами волн 250-280 нм.
9. Устройство по п.1, в котором измерительное отверстие выполнено в центральной области места для измерений для подвода излучений на поверхность алмаза.
10. Устройство по п.8, в котором микроконтроллер дополнительно выполнен с возможностью управления механизмом ввода-вывода для вывода нотч-фильтра с оптического пути излучения.

---