(57) 1. Фотогальваническая энергетическая (ФГ) установка (1) с несколькими двухфазными ФГ-модулями (2), которые вертикально расположены на опорной конструкции (3), причем опорная конструкция (3) содержит несколько стоек (4), которые закреплены на или в грунте, в частности скреплены болтами, причем на стойках (4) закреплены ригели (5), которые соответственно соединяют друг с другом две соседние стойки (4), и причем соответственно две стойки (4) и два ригеля (5) образуют, по существу, прямоугольный участок (6) сборки, в котором расположен по меньшей мере один ФГ-модуль (2), отличающаяся тем, что ФГ-модули (2) закреплены на ригелях (5), причем для этого предусмотрены удерживающие элементы (15) и причем удерживающие элементы (15) для этого снабжены участками (16) с пазами, в которые вставлена грань соответствующего ФГ-модуля (2).
2. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по п.1, отличающаяся тем, что стойки (4) расположены, по существу, вертикально и/или ригели (5) расположены, по существу, горизонтально, и/или что в вертикальном направлении несколько, в частности до четырех ФГ-модулей (2), расположены друг над другом.
3. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по п.1 или 2, отличающаяся тем, что стойки (4) разделяют, по меньшей мере, на соединенный с грунтом участок (7) крепления и соединенный или соединяемый с ним участок (8) удержания, который расположен над участком (7) крепления, и/или горизонтально соседние ФГ-модули (2) расположены в вертикальном направлении со смещением друг к другу.
4. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что активные поверхности (9) ФГ-модулей (2) расположены на расстоянии от стоек (4) и/или ригелей (5), в частности, таким образом, что, по меньшей мере, до угла падения 20°, особенно предпочтительно, по меньшей мере, до угла падения 30°, исключается затенение активной поверхности (9) стойками (4), и/или что, по меньшей мере, до угла падения 25°, предпочтительно, по меньшей мере, до угла падения 30° или даже 40°, исключается затенение активной поверхности (9) ригелями (5).
5. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что активные поверхности (9) ФГ-модулей (2) расположены на противоположных друг другу сторонах на расстоянии ассиметрично к стойкам (4) и/или ригелям (5), и/или, что ФГ-модули (2) подвешены на опорной конструкции (3) с возможностью вращения вокруг предпочтительно примерно параллельной ригелям (5) оси (25) вращения.
6. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что на стойках (4) образованы удерживающие поверхности (10), на которых является плоскостно закрепляемым относящийся к ним ригель (5), причем, в частности, удерживающие поверхности (10) в виде фланцев (11) расположены на профиле (12), и/или в виде накладок (13) расположены на отверстии (14) в профиле (12).
7. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по п.6, отличающаяся тем, что удерживающие поверхности (10) образованы парами, чтобы охватить вставленный между удерживающими поверхностями (10) ригель (5) с двух сторон, и/или что ригели (5) уже, чем стойки (4), в частности уже, чем расстояние между образованными парами удерживающими поверхностями (10).
8. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что на стойках (4) образованы сквозные отверстия (14) для принятия ригеля (5) или его концов, причем, в частности, по меньшей мере один участок (8) удержания стоек (4) выполнен в виде омега-профиля.
9. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по п.8, отличающаяся тем, что в сквозное отверстие (14) установлены два ригеля (5) или, что в сквозное отверстие (14) установлен только один ригель (5), в то время как следующий ригель (5) закреплен на противоположной сквозному отверстию (14) стороне стойки (4) без сквозного отверстия (14) и с помощью образованных на стойках (4) удерживающих поверхностей (10), причем, в частности, на удерживающей поверхности (10) закреплены проходящий через сквозное отверстие (14) ригель (5) и дополнительный ригель (5).
10. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что стойки (4) имеют по меньшей мере на одном участке (8) удержания профиль (12) C-формы, U-формы, Z-формы или S-формы, в частности, причем на концах профиля (12) образованы дополнительные удерживающие поверхности (10) в виде фланцев (11).
11. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, причем удерживающий элемент (15) имеет два противоположных участка (16) с пазами и/или причем ригели (5) на нижней стороне имеют скос (24).
12. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по п.11, отличающаяся тем, что удерживающие элементы (15) соответственно имеют сужение (17) поперечного сечения, таким образом, что удерживающий элемент (15) вставлен или может быть вставлен в расположенное на ригеле сквозное отверстие (14) до определенной глубины, причем, в частности, на удерживающем элементе (15) образована контактная поверхность (18), с помощью которой удерживающий элемент (15) плоскостно прилегает к ригелю (5).
13. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что между грунтом и самым нижним ригелем (5) остается свободное пространство (26), причем, в частности, свободное пространство (26) имеет высоту по меньшей мере 50 см, по меньшей мере 60 см или по меньшей мере 1 м, причем, в частности, ряды (20) ФГ-установки (1) расположены на таком расстоянии друг от друга, что между рядами (20) возникает свободная площадь, пригодная для обработки, шириной, по меньшей мере, 6 м, по меньшей мере 8 м или по меньшей мере 10 м.
14. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что ФГ-модули (2) с опорной конструкцией (3), по существу, образуют плоскость и/или что ФГ-модули (2) расположены в несколько рядов (20) на расстоянии друг от друга, причем ФГ-модули (2) ряда (20), по существу, образуют плоскость.
15. Фотогальваническая энергетическая установка (1) по п.14, отличающаяся тем, что расстояние между двумя рядами (20) по меньшей мере, в три раза, предпочтительно по меньшей мере в четыре раза, особенно предпочтительно по меньшей мере в пять раз больше максимальной высоты активной поверхности (9) ФГ-установки (1).

---