(57) 1. Плиточная система многоцелевого назначения, содержащая множество плиток многоцелевого назначения, причем указанные плитки выполнены с возможностью соединения в шевронный рисунок, и при этом каждая плитка содержит
первую пару противоположных краев, состоящую из первого края и противоположного второго края;
вторую пару противоположных краев, состоящую из третьего края и противоположного четвертого края,
причем
первый край и третий край заключают первый острый угол, и при этом второй край и четвертый край заключают второй острый угол, противоположный указанному первому острому углу, причем второй край и третий край заключают первый тупой угол, и при этом первый край и четвертый край заключают второй тупой угол, противоположный указанному первому тупому углу, и при этом
на первой паре противоположных краев присутствуют пары противоположных первых механических соединительных приспособлений для блокировки друг с другом указанных плиток по меньшей мере в вертикальном направлении, в том числе
первый соединительный профиль, содержащий направленный вбок выступ, проходящий в направлении, практически параллельном по отношению к верхней стороне плитки, и
противоположный второй соединительный профиль, содержащий углубление, выполненное с возможностью размещения по меньшей мере части направленного вбок выступа следующей плитки, причем указанное углубление определяют верхняя кромка и нижняя кромка, и при этом указанные первые механические соединительные профили допускают блокировку друг с другом указанных плиток посредством наклона внутрь, и в результате этого по меньшей мере часть направленного вбок выступа размещается в углублении, и при этом
на второй паре противоположных краев присутствуют пары противоположных вторых механических соединительных приспособлений для блокировки друг с другом указанных плиток вертикально и горизонтально, в том числе
третий соединительный профиль, содержащий направленный вверх выступ, по меньшей мере одно направленное вверх крыло, находящееся на расстоянии от направленного вверх выступа, и направленный вверх паз, образованный между направленным вверх выступом и направленным вверх крылом, причем по меньшей мере часть стороны направленного вверх выступа, которая обращена к направленному вверх крылу, наклонена к направленному вверх крылу, и
четвертый соединительный профиль, содержащий направленный вниз выступ, по меньшей мере одно направленное вниз крыло, находящееся на расстоянии от направленного вниз выступа, и направленный вниз паз, образованный между направленным вниз выступом и направленным вниз крылом, причем по меньшей мере часть стороны направленного вниз выступа, которая обращена к направленному вниз крылу, наклонена к направленному вниз крылу, причем вторые механические соединительные профили допускают блокировку друг с другом указанных плиток в течение наклона внутрь первого соединительного профиля плитки и второго соединительного профиля другой плитки, причем четвертый соединительный профиль соединяемой плитки совершает ножницеобразное движение по направлению к третьему соединительному профилю следующей плитки, что приводит к блокировке третьего соединительного профиля и четвертого соединительного профиля,
при этом каждая плитка содержит практически жесткий основной слой, по меньшей мере, частично изготовленный из вспененного композиционного материала, содержащего по меньшей мере один пластический материал и по меньшей мере один наполнитель, причем по меньшей мере одна плитка содержит по меньшей мере одну верхнюю подложку, прикрепленную к верхней стороне основного слоя, при этом указанная верхняя подложка содержит декоративный слой, причем по меньшей мере одна плитка содержит множество полоскообразных верхних подложек, прикрепленных к верхней стороне основного слоя, при этом указанные верхние подложки расположены рядом друг с другом в одной плоскости, и при этом лицевые продольные края по меньшей мере двух полоскообразных верхних подложек содержат скос вблизи верхней стороны, причем система содержит плитки двух различных типов (А и В, соответственно), и при этом первые механические соединительные приспособления плитки одного типа вдоль первой пары противоположных краев расположены зеркально-перевернутым образом по отношению к соответствующим первым механическим соединительным приспособлениям вдоль одной и той же первой пары противоположных краевых частей плитки другого типа.
2. Плиточная система по п.1, в которой по меньшей мере одна плитка имеет конфигурацию, в которой
первый соединительный профиль расположен на первом крае;
второй соединительный профиль расположен на втором крае;
третий соединительный профиль расположен на третьем крае и
четвертый соединительный профиль расположен на четвертом крае.
3. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере одна плитка имеет конфигурацию, в которой
первый соединительный профиль расположен на втором крае;
второй соединительный профиль расположен на первом крае;
третий соединительный профиль расположен на третьем крае и
четвертый соединительный профиль расположен на четвертом крае.
4. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой
первый соединительный профиль содержит направленный вбок выступ, проходящий в направлении, практически параллельном по отношению к верхней стороне плитки, причем нижняя передняя область указанного направленного вбок выступа и нижняя задняя область указанного выступа сконфигурированы в качестве несущей области, и при этом нижняя задняя область расположена ближе к уровню верхней стороны плитки, чем наиболее нижняя часть нижней передней области, и при этом
второй соединительный профиль содержит углубление для размещения по меньшей мере части направленного вбок выступа следующей плитки, причем указанное углубление определяют верхняя кромка и нижняя кромка, при этом указанная нижняя кромка содержит направленное вверх выступающее плечо для опоры и/или обращения к несущей области направленного вбок выступа, причем направленный вбок выступ сконструирован таким образом, что блокировка происходит посредством вводящего движения в углубление направленного вбок выступа следующей плитки и наклонного движения вниз вокруг оси, параллельной по отношению к первому соединительному профилю, в результате чего верхняя сторона направленного вбок выступа будет зацепляться с верхней кромкой, и несущая область направленного вбок выступа будет находиться на опоре и/или будет обращена к плечу нижней кромки, что приводит к одновременной блокировке прилегающих плиток на первом и втором краях в горизонтальном направлении и в вертикальном направлении.
5. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой
третий соединительный профиль содержит направленный вверх выступ, по меньшей мере одно направленное вверх крыло, находящееся на расстоянии от направленного вверх выступа, и направленный вверх паз, образованный между направленным вверх выступом и направленным вверх крылом, причем по меньшей мере часть стороны направленного вверх выступа, которая обращена к направленному вверх крылу, наклонена к направленному вверх крылу, и при этом
четвертый соединительный профиль содержит направленный вниз выступ, по меньшей мере одно направленное вниз крыло, находящееся на расстоянии от направленного вниз выступа, и направленный вниз паз, образованный между направленным вниз выступом и направленным вниз крылом, причем по меньшей мере часть стороны направленного вниз выступа, которая обращена к направленному вниз крылу, наклонена к направленному вниз крылу,
при этом третий и четвертый соединительные профили сконструированы таким образом, что блокировка происходит в течение наклона вниз соединяемой плитки на первом соединительном профиле ко второму соединительному профилю следующей плитки, причем четвертый соединительный профиль соединяемой плитки совершает ножницеобразное движение по направлению к третьему соединительному профилю следующей плитки, таким образом, что направленный вниз выступ четвертого соединительного профиля соединяемой плитки будет вдавливаться в направленный вверх паз третьего соединительного профиля указанной другой плитки и направленный вверх выступ указанной другой плитки будет вдавливаться в направленный вниз паз соединяемой плитки, посредством деформации третьего соединительного профиля и/или края соединительного профиля, что приводит к одновременной блокировке прилегающих плиток на третьем и четвертом соединительных профилях в горизонтальном направлении и в вертикальном направлении.
6. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой длина первого края и длина второго края плитки являются практически одинаковыми.
7. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой длина первого края и длина второго края плитки составляют более чем длина третьего края и четвертого края указанной плитки.
8. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой первый острый угол и второй острый угол составляют от 30 до 60°.
9. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой первый тупой угол и второй тупой угол составляют от 120 до и 150°.
10. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере у одной пары противоположных краев плитки присутствует скос вблизи верхней стороны.
11. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой каждая полоскообразная верхняя подложка содержит
декоративный слой и
устойчивый к истиранию износный слой, покрывающий указанный декоративный слой, причем верхняя поверхность указанного износного слоя представляет собой верхнюю поверхность указанной плитки, и при этом износный слой представляет собой прозрачный и/или полупрозрачный материал, таким образом, что декоративный слой является видимым через прозрачный износный слой, и при этом каждый скос, присутствующий на лицевых продольных краях по меньшей мере двух полоскообразных верхних подложек, образует срезанная часть и/или вдавленная часть указанного износного слоя.
12. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой каждая полоскообразная верхняя подложка содержит подслой, расположенный между основным слоем и декоративным слоем.
13. Плиточная система по п.12, в которой ширина верхней части подслоя составляет более чем ширина нижней части подслоя.
14. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере одна верхняя подложка, изготовлена, по меньшей мере, частично по меньшей мере из одного материала, выбранного из группы, которую составляют металлы, сплавы, высокомолекулярные материалы, такие как сополимеры и/или гомополимеры виниловых мономеров; конденсационные полимеры, такие как сложные полиэфиры, полиамиды, полиимиды, эпоксидные смолы, фенолформальдегидные смолы, карбамидоформальдегидные смолы; натуральные высокомолекулярные материалы или соответствующие модифицированные производные, такие как растительные волокна, животные волокна, минеральные волокна, керамические волокна и углеродные волокна.
15. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой каждая полоскообразная верхняя подложка содержит практически прозрачную или полупрозрачную трехмерную тисненую структуру, по меньшей мере, частично покрывающую указанный печатный слой.
16. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой верхняя поверхность основного слоя практически полностью покрыта множеством верхних подложек.
17. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой каждая из множества верхних подложек проходит от первого края до второго края плитки.
18. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой каждая из множества верхних подложек содержит декоративный слой, причем декоративные слои по меньшей мере двух расположенных рядом верхних подложек различаются по внешнему виду.
19. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой основной слой содержит множество вспенивающих веществ, причем по меньшей мере два вспенивающих вещества имеют отличающиеся друг от друга температуры разложения.
20. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой пластический материал вспененного композиционного материала основного слоя представляет собой поливинилхлорид (PVC).
21. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой пластический материал вспененного композиционного материала основного слоя представляет собой по меньшей мере один материал, выбранный из группы, которую составляют сополимер этилена и винилацетата (EVA), полиуретан (PU), полиэтилен (РЕ), полипропилен (РР), полистирол (PS) поливинилхлорид (PVC) или их смеси.
22. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере один наполнитель основного слоя выбран из группы, которую составляют тальк, мел, древесина, карбонат кальция и минеральный наполнитель.
23. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере один наполнитель основного слоя выбран из группы, которую составляют соль стеариновой кислоты, стеарат кальция и стеарат цинка.
24. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой основной слой содержит по меньшей мере один модификатор ударной прочности, содержащий по меньшей мере один алкилметакрилат.
25. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой практически жесткий основной слой, по меньшей мере, частично изготовлен из пластического пеноматериала с закрытыми ячейками, причем в пластическом материале отсутствует пластификатор.
26. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой вспененный композиционный материал имеет плотность в диапазоне приблизительно от 0,1 до 1,5 г/см³.
27. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой вспененный композиционный материал содержит приблизительно от 3 до 9% по массе повышающего ударную прочность вещества.
28. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой вспененный композиционный материал имеет модуль упругости, составляющий более чем 700 МПа.
29. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой плотность основного слоя изменяется в направлении высоты основного слоя.
30. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой из верхней секции и/или нижней секции основного слоя образован поверхностный слой, имеющий пористость, которая составляет менее чем пористость центральной области основного слоя, причем толщина каждого поверхностного слоя составляет от 0,01 до 1 мм.
31. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой каждая плитка содержит по меньшей мере один вспомогательный слой, прикрепленный к нижней стороне основного слоя, причем указанный по меньшей мере один вспомогательный слой, по меньшей мере, частично изготовлен из гибкого материала.
32. Плиточная система по п.31, в которой толщина вспомогательного слоя составляет по меньшей мере 0,5 мм.
33. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой каждая плитка содержит по меньшей мере один армирующий слой, причем плотность армирующего слоя предпочтительно составляет от 1000 до 2000 кг/м³.
34. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере часть первой соединительной части и/или по меньшей мере часть второй соединительной части каждой плитки составляет единое целое с основным слоем.
35. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой для первой соединительной части и/или второй соединительной части допущена деформация в течение соединения и отсоединения.
36. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере одна соединительная часть из первой соединительной части и второй соединительной части содержит мостик, присоединяющий выступ указанного соединительного элемента к основному слою, причем минимальная толщина мостика составляет менее чем минимальная ширина выступа.
37. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой вторая соединительная часть содержит верхний мостик, присоединяющий направленный вниз выступ к основному слою, причем верхний мостик выполнен с возможностью деформации в течение соединения прилегающих плиток для расширения направленного вниз паза.
38. Плиточная система по п.37, в которой верхняя сторона направленного вверх выступа является, по меньшей мере, частично наклонной, причем наклон верхней стороны направленного вверх выступа и наклон мостиковой части второй соединительной части являются практически одинаковыми.
39. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере часть направленного вверх крыла, примыкающая к верхней стороне плитки, выполнена с возможностью вступления в контакт по меньшей мере с частью направленного вниз выступа, примыкающей к верхней стороне другой плитки, в состоянии соединения указанных плиток.
40. Плиточная система по п.38, в которой верхняя сторона плитки выполнена с возможностью практически бесшовного присоединения к верхней стороне другой плитки.
41. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой первый блокирующий элемент расположен на расстоянии от верхней стороны направленного вверх выступа.
42. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой второй блокирующий элемент расположен на расстоянии от верхней стороны направленного вниз паза.
43. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой эффективная высота направленного вниз края составляет более чем эффективная высота направленного вверх выступа.
44. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой угол, который заключают, по меньшей мере, наклонная часть стороны направленного вверх выступа, обращенная к направленному вверх крылу, и направленное вверх крыло, практически равен углу, который заключают по меньшей мере наклонная часть стороны направленного вниз выступа, обращенная к направленному вниз крылу, и направленное вниз крыло.
45. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой угол, который заключают, с одной стороны, направление, в котором проходит по меньшей мере часть стороны направленного вверх выступа, обращенная к направленному вверх крылу, и, с другой стороны, нормаль верхней стороны основного слоя, составляет от 0 до 60°.
46. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой угол, который заключают, с одной стороны, направление, в котором проходит по меньшей мере часть стороны направленного вниз выступа, обращенная к направленному вниз крылу, и, с другой стороны, нормаль нижней стороны основного слоя, составляет от 0 до 60°.
47. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой первый блокирующий элемент содержит по меньшей мере одну направленную наружу выпуклость, и при этом второй блокирующий элемент содержит по меньшей мере одно углубление, причем направленная наружу выпуклость выполнена с возможностью, по меньшей мере, частичного размещения в углублении прилегающей соединенной плитки для цели осуществления блокированного соединения.
48. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой первый блокирующий элемент расположен на расстоянии от верхней стороны направленного вверх выступа.
49. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой сторона направленного вниз выступа, обращенная от направленного вниз крыла, содержит третий блокирующий элемент, и при этом направленное вверх крыло содержит четвертый блокирующий элемент, причем указанный третий блокирующий элемент выполнен с возможностью совместного действия с четвертым блокирующим элементом другой плитки.
50. Плиточная система по п.49, в которой совместное действие третьего блокирующего элемента и четвертого блокирующего элемента в состоянии соединения двух плиток определяет касательную Т1, которая заключает угол А1 с плоскостью, определяемой плиткой, причем угол А1 составляет менее чем угол А2, который заключают указанная плоскость, определяемая плиткой, и касательная Т2, которую определяет совместное действие наклонной части стороны направленного вверх выступа, обращенной к направленному вверх крылу, и наклонной части стороны направленного вниз выступа, обращенной к направленному вниз крылу.
51. Плиточная система по п.50, в которой наибольшая разность между углом А1 и углом А2 составляет от 5 до 10°.
52. Плиточная система по одному из пп.49-51, в которой кратчайшее расстояние между верхним краем направленного вниз выступа и нижней стороной основного слоя определяет плоскость, причем третий блокирующий элемент и по меньшей мере часть направленного вниз выступа расположены на противоположных сторонах от указанной плоскости.
53. Плиточная система по одному из пп.49-52, в которой минимальное расстояние между указанным третьим блокирующим элементом и верхней стороной плитки составляет менее чем минимальное расстояние между верхней стороной направленного вверх выступа и указанной верхней стороной плитки.
54. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой сторона направленного вверх выступа, обращенная от направленного вверх крыла, расположена на расстоянии от направленного вниз крыла в состоянии соединения прилегающих плиток.
55. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, в которой по меньшей мере некоторые из плиток являются одинаковыми.
56. Плиточная система по любому из предшествующих пунктов, причем плиточная система содержит плитки различных типов (А и В, соответственно), и при этом размер плитки первого типа (А) отличается от размера плитки второго типа (В).
57. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой отчетливые визуальные маркировки нанесены на плитки различных типов.
58. Плиточная система по п.57, в которой отчетливые визуальные маркировки нанесены на направленный вверх выступ по меньшей мере одного первого соединительного элемента плитки каждого типа.
59. Плиточная система по одному из предшествующих пунктов, в которой декоративный слой образует красочный слой, напечатанный цифровым способом непосредственно на опорный слой, такой как основной слой или грунтовочный слой, нанесенный на основной слой.
60. Плиточная система по одному из пп.1-58, в которой декоративный слой образует печатная синтетическая пленка.
61. Плиточное покрытие, состоящее из взаимно соединенных плиток плиточной системы по одному из пп.1-60.
62. Плитка для применения в плиточной системе многоцелевого назначения по одному из пп.1-60.

---